Hlavne tehdy to jeste pri te urovni integrace nevyzadovalo hi-end litografii. Nemuseli resit treba interferenci odrazenych fotonu a maska +- odpovidala tomu co se "otisklo" na druhe strane.
Dnes yohle samozrejme uz davno neni pri dnesni miniaturizaci pravda. Maska musi byt upravena/prepocitana a obraz na masce vlastne tak docela nepripomina to co se ve skutecnosti "otiskne" po prosviceni.