Hlavní navigace

EUV litografie na vzestupu, potvrzuje ASML

Sdílet

David Ježek
ASML EUV Autor: ASML

Přechod na EUV zdroje světla zjednoduší a zrychlí výrobu čipů. Momentálně jsou na světě dva výrobci, kteří už oficiálně spustili přechod na EUV litografii u 7nm procesů, a to jihokorejský Samsung (proces N7+) a tchaj-wanská TSMC (proces 7LPP). Jediným dodavatelem vhodných zdrojů EUV světla je nizozemská ASML, která nyní slovy svého šéfa potvrzuje rostoucí zájem mezi výrobci.

Počet dodaných EUV systémů se v letošním roce počítá na 30 kusů, z nichž některé jsou již novější verze s vyšším výkonem (systém NXE:3400C), které umožňují továrnou prohnat více waferů vyráběných pomocí EUV technologie. Očekává se dále, že v roce 2021 se přidá Intel, který do ASML v posledních letech též masivně investoval a EUV systémy využije pro příští generaci výrobních procesů. Vedle obecných čipů (ARM SoC, CPU, GPU) se předpokládá, že Samsung nasadí EUV na výrobu DRAM, stejně tak i SK Hynix (další významný výrobce paměťových čipů). Šéf ASML Peter Wennink tak konstatuje, že věci se jdou očekávaným směrem, pro nás zákazníky to pak znamená v budoucnu více levnějších a výkonnějších čipů a na nich postavených produktů.

Našli jste v článku chybu?
Ochrana proti spamovacím robotům. Odpovězte prosím na následující otázku: Jaký je letos rok?