Intel má doposud problémy s 10nm procesem, který měl být původně nasazen již v roce 2016. V současnosti se 10nm vyrábí jen pár procesorů a masové nasazení přijde asi příští rok.
Zdá se ale, že 7nm proces bude nasazen podle plánu. 10 nm používá totiž deep ultraviolet lithography s vlnovou délkou 193 nm a quad-patterning, což je zdrojem problémů. Naopak 7nm proces vyvíjený jiným týmem je založen na extreme ultraviolet lithography s vlnovou délkou jen 13,5 nm. V tomto případě je problémový multipatterning omezen. Intel zatím plánuje jen jednu továrnu se 7nm technologií a to Fab 42 v Arizoně.
(Zdroj: Slashdot)
