Téměř monopol Nvidie na poli desktop GPU, KDE řeší padání KWin

8. 3. 2026
Doba čtení: 3 minuty

Sdílet

Jen-Hsun Huang s GeForce RTX 4090
Autor: Nvidia
Jen-Hsun Huang s GeForce RTX 4090
Týden v GNOME přináší vylepšenou podporu SVG v GTK, vyšla vývojová verze Wine 11.4, nový zdroj světla pro EUV litografii od ASML zrychlí výrobu o 50%, Nvidia má za poslední loňský kvartál 94% podíl na trhu grafických karet, Radeony nadále klesají a Intel drží 1 %.

Týden v KDE: pucování a čištění

Žádná revoluce se v uplynulém týdnu v projektu KDE nestala. Vývojáři pracovali nadále na drobných vylepšeních řady 6.6, pracích na novinkách pro řadu 6.7 a obecně se spíše opravovalo, drobně vylepšovalo a celkově relaxovalo po vydání Plasmy 6.6.0 ajejí následné rychlé aktualizaci 6.6.1.

Plasma 6.6.2 dostala jen mírnou úpravu umístění tlačítka „See More“ v Discoveru pro pravo-levé jazyky. Plasma 6.6.3 přinese též mírně zkorigované umístění Panel Spacer Widgetu a možnost víceřádkových popisků u widget nástrojů ve správci úloh. Další novinky, to už pak je doména Plasmy 6.7 – úpravy pro barevná schémata či globální klávesové zkratky.

Plasma 6.6.2 také řeší další případ chyby vedoucí k pádu kompozitoru KWin, tentokrát nacházející se v nástroji kscreen-doctor. Spectacle zase už nebude padat, když uživatel bude vyrábět screenshot obdélníkové oblasti skrze KDE Connect a řešeno je i několik problémů s krdp s připojováním ke klientům s Microsoft Windows.

Další chybu potenciálně vedoucí k pádu kompozitoru KWin v souvislosti s kscreen-doctor opraví i Plasma 6.6.3, zde jde o problém s rozlišením virtuální obrazovky. Opraveno je i padání Plasmy u určitých konfigurací více-monitorových systémů a dále regrese v kódu pro automatické ztmavování některých monitorů.

Pak je tu ještě budoucí Plasma 6.7. Pro ní je řešena chyba vedoucí k ukončení (nikoli pádu) Plasmy při určité chybě Wayland protokolu, když je ze spánku probouzen některý z konkrétních typů monitorů, které k této chybě mají náklonnost. Plasma také od této verze nebude informovat o nulovém počtu přenášených souborů, je-li jejich množství ve skutečnosti opravdu hodně velké. Tři dílčí opravy pak míří také do Frameworks 6.23.1 a jedna do PulseAudioQt 1.8.0, který mohl způsobovat za určitých okolností pád Plasmy. Do Plasmy 6.6.3 pak míří také úprava KWin pro screencasting, který bude nyní robustnější, s PipeWire 1.6.0 a novějšími.

O novinkách uplynulého týdne informují Nate Graham a John Veness.

Týden v GNOME: vylepšená podpora SVG v GTK 4.22

Kromě obligátního Georgesova streamování vývoje GNOME Calendaru (stejně jako minulý týden) informují vývojáři GNOME o vylepšeních pro GTK. Framework například nově nasadí na SVG založený formát pro ikony, a to pro symbolické ikony, včetně animací. Z projektů třetích stran pak není představeno nic zásadně světoborného, spíše menší aplikace. Celkově byl dosti velký klid.

Vývojová verze Wine 11.4

Projekt Wine má za sebou vydání další vývojové verze v rámci řady 11. Tvůrci v ní reimplementovali SAX reader v MSXML, přidali optimalizace pro resampling v DirectSound, lepší implementaci CFGMGR32 a Unix timezones. Opraveno je tentokrát 17 chyb, z nichž ta nejstarší týkající se Xara Xtreme 4 si na uzavření počkala téměř 18 let. Řešena je také například chyba běhu instalátoru FL Studio 12.4. Více v přehledu na domovském webu projektu.

Školení Zabbix

Nvidia má 94% podíl na trhu grafických karet, Radeony nadále klesají

Agentura Jon Peddie Research vydala pravidelnou zprávu o stavu trhu grafických karet. Za poslední čtvrtletí minulého roku nadále pokračoval pokles počtu lidí, kteří si koupili Radeon, a to ve prospěch GeForce. Intel si zachovává zhruba 1% podíl, AMD klesla na 5% podíl kdy za Q4 v roce 2024 měla 15% podíl. Celých 94 % prodejů tak šlo do kasičky Nvidie, trh jako celek ale rostl (o více než třetinu oproti roku 2024) a táhnou jej primárně GPU pro datová centra (tedy primárně do AI systémů). Agentura čeká pro příští rok 10% pokles prodejů, přičemž na vině je pochopitelně situace na trhu.

Nový zdroj světla pro EUV litografii od ASML zrychlí výrobu o 50%

Nizozemská ASML oznámila dokončení vývoje nové generace EUV zdroje pro své výrobní stroje. Díky navýšení jeho výkonu na 1000W je možné zrychlit výrobu na waferech využívající EUV litografii o polovinu. Než ale bude vše doladěno, implementováno a nasazeno ve světových EUV linkách, bude se psát rok 2030. Tou dobou by EUV skenery o ASML měly produkovat až 330 kusů 300mm waferů za hodinu. Řeč je v tuto chvíli o klasickém EUV, nikoli o High-NA EUV.

Autor článku

Příznivec open-source rád píšící i o ne-IT tématech. Odpůrce softwarových patentů a omezování občanských svobod ve prospěch korporací.



Nejnovější články