Pokud by někdo nevěděl jak se vlastně generuje EUV světlo, tak tady si dovolím citovat:
Generátor kapiček vystřeluje ve vakuové komoře 50 000 nejmenších kapek cínu za sekundu. Každá z těchto kapek je zasažena jedním z 50 000 laserových impulzů a následně přeměněna na plazma. Tak vzniká EUV světlo, které je pomocí zrcadla odkloněno na wafer za účelem jeho osvětlení.
Sám jsem to nevěděl, tak věřím, že to někoho zaujme.
Zdroj: https://www.trumpf.com/cs_CZ/produkty/laser/euv-drive-laser/
Pricom len na EUV optike sa strati 96% a na to aby sa na vyrabany cip dostalo 200W svetelneho vykonu je potrebny celkovy prikon cca. 0,5 MW.
https://en.wikipedia.org/wiki/Extreme_ultraviolet_lithography