IBM skusalo pumpovat vodu priamo do procesora:
http://www.tomshardware.com/news/IBm-research,5604.html
Ale myslim si, ze sa najdu aj ine techniky na odvod tepla. Pripadne mozu navrhnut architekturu, aby to tak nehrialo.
CMOS hřeje při přepnutí stavu. V klidu je spotřeba (a tím i výkon) 00 nic. Takže vrstvy se používají třeba u PLD - vespod buňky, nad nima propojovací matice, která je v době běhu statická. Když se vhodně nakombinuje zatížení jako u PLD, kde jsou v horní vrstvě staticky sepnutý tranzistory, LUT a paměť pod tím... :)
Ale třeba přijdou s tím, že udělají N-MOS, nad posledním metalem hodí polySi, pak SiO2 a epitaxní N-Si jako hradlo P-MOS, líp to rozvede napájení a ušetří se nějaký prostor (netřeba vytvářet a propojovat N-Welly). Nechám se překvapit.
Nebo rovnou chladící součástka, ve formě speciální polovodičové vrstvy s více děrami, než elektrony, teplo vybudí elektron, který je okamžitě zachycen dírou, děr je mnohonásobně více, takže žádný proud neteče, protože porucha se nešíří. Excitace elektronu v tom novém materiálu by musela být energeticky náročnější, než jeho zachycení dírou, aby se část tepla spotřebovala, statisticky by počet děr musel neustále řádově převyšovat počet volných elektronů. :-))))
Ajéje, Ivanovo moudro do kamene v lebce tesaný...
Dneska je nejpoužívanější technologie CMOS. Ta používá tranzistory NMOS i PMOS. Podle substrátu se ale dá vyrobit jenom jeden typ, u substrátu P NMOSy a naopak. Takže se v substrátu P udělají jámy N a u N jámy P. A v nich opačný tranzistory.
Technologicky se jáma dělá jako první difúze nebo iontová implementace postě tak, že se o několik řádů přestřelí hladina donorů/akceptorů a co je v základním substrátu jako majoritní nosič, stane se minoritním a naopak. Takže už dneska je tímto způsobem dělaná polovička tranzistorů v procesoru. A trik s vyšší dotací je starý jako planární metoda sama, ostatně u bipolární technologie bys takto vytvořil bázovou oblast tranzistoru NPN.
Nechdeš raděj trousit ekonomický moudra? Tam se zasměje víc lidí.
Ano, máte pravdu, dokonce je na to i US patent - https://www.google.com/patents/US5895964
Ono nejde ani tak moc o masky, ale o to, že v každým technologickým kroku je určitá pravděpodobnost chyby a pravděpodobnosti se násobí, takže klesá výtěžnost. A na potvoru je potřeba pro další vrstvy epitaxní růst, takže waffer tráví v pecích minimálně o týden-dva dýl. Pokud se dostanou do bodu, kdy výroba trvá dvojnásobek času a energie a je poloviční výtěžnost, je to čtyřnásobná pálka. Oproti tomu zvětšení čipu o polovinu by zachovalo náklady na jeho výrobu (při stejné technologii) a výtěžnost spadla třeba o 20%. proto se investuje spíš do menších pouzder jako WLP nebo CSP, než do zmenšování brouků.
Ostatně u analogu už technologie pod 180um nedávají moc smysl... A nejenom číslicovkou živ je systém.