Aliance společností v čele s výzkumnými laboratořemi IBM oznámila první čip s tranzistory vyrobený 7nanometrovým výrobním procesem. Aby toho dosáhli, nahradili křemík používaný pro tranzistory za nový materiál. Jako materiál s nejlepšími vlastnostmi jim vyšel SiGe, směs křemíku a germania. K tomu zvolili litografickou technologii Extreme Ultraviolet (EUV).
V současnosti je nejpokročilejším výrobním procesem u komerčně prodávaných čipů 14nm výrobní proces. 10nm proces by se měl začít používat už příští rok. Podle některých informací by ale mohl mít Intel, současný lídr výroby čipů, problémy s tímto výrobním procesem. Intel měl problémy i s 14nm procesem a procesory s touto technologií uvedl na trh později, než plánoval.
Kdy se čipy touto novou technologií objeví na trhu a o kolik stoupne cena oproti současným čipům, IBM neuvedl.
(Zdroj: DSL.sk)
